通過能量色散X射線光譜儀來測定。Ti和O元素來源于TiO2,而F,Si,Mg,Al,K,和Cu則來源于氟金云母。能譜測得的Sn元素的質量百分數是0.88%，能夠歸因于SnO2。圖3.5所示為制備的不同晶型氧化鈦薄膜的掃面電鏡圖片。

　　銳鈦礦氧化鈦薄膜由直徑約為15 nm的顆粒組成，看起來像一個外表光滑的薄板。而金紅石型氧化鈦薄膜則由一簇簇納米花組成，納米花的直徑為190～260 nm。每朵納米花均由數量超越20個的納米棒組成。

　　為了(le)進一步(bu)調查金紅(hong)石型氧化鈦(tai)納米棒(bang)的(de)晶(jing)體結構，采用透(tou)射電鏡(jing)以及(ji)選區電子衍射進行表征。樣(yang)品(pin)的(de)制備方法如下：取(qu)(qu)若干(gan)粉體置于研(yan)缽中，研(yan)磨10 min。隨后將(jiang)研(yan)磨所得(de)粉體置于蒸餾水(shui)中，超聲(sheng)分散(san)15 min。接著將(jiang)所得(de)懸浮液(ye)倒入(ru)100 mL量筒中，靜置1小時。取(qu)(qu)上(shang)層清液(ye)滴(di)到銅(tong)網上(shang)。

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